Titan dioksidini sepuvchi maqsadli disk
Titan dioksidini sepuvchi maqsadli diskBu fizik bug 'cho'ktirish (PVD) texnikasida, xususan, purkashda qo'llaniladigan maxsus material shaklidir. Sputtering - bu yuqori energiyali zarralar tomonidan bombardimon qilinishi natijasida atomlar yoki molekulalar qattiq maqsadli materialdan chiqarib yuboriladigan jarayon bo'lib, substratda yupqa plyonka hosil qiladi.
Shu nuqtai nazardan, titan dioksidi (TiO2) püskürtme maqsadli disk titanium dioksid materialidan yasalgan dumaloq disk shaklidagi shaklga ishora qiladi. Ushbu disklar purkash tizimlarida nishon sifatida foydalanish uchun aniq ishlab chiqarilgan. Cho'kish jarayoniga duchor bo'lganda, TiO2 moddasi o'ziga xos xususiyatlarga ega nozik bir plyonka hosil qilish uchun substratga yotqiziladi.
Titan dioksidi o'zining xususiyatlariga ko'ra turli xil ilovalarga ega ko'p qirrali materialdir:
Optik xususiyatlar:TiO2 o'zining yuqori sinishi indeksi bilan mashhur bo'lib, uni optik qoplamalarda, masalan, linzalar yoki nometalllardagi aks ettiruvchi qoplamalar uchun foydali qiladi.
Fotokatalitik xususiyatlari:Titan dioksidi fotokatalitik faollikni namoyish etadi, bu o'z-o'zini tozalash yuzalarida, suvni tozalashda va havoni tozalash texnologiyalarida qo'llaniladi.
Biologik moslik:Ba'zi shakllarda TiO2 biomoslashuvchan bo'lib, uni biologik muvofiqlikni oshirish uchun implantlarga qoplamalar kabi tibbiy ilovalar uchun mos qiladi.
Elektr va elektron ilovalar:TiO2 yupqa plyonkalar dielektrik xossalari tufayli elektronikada, masalan, kondansatör va rezistorlarda qo'llaniladi.
Titan dioksididan tayyorlangan purkash maqsadli diski püskürtme jarayonida manba materiali bo'lib xizmat qiladi. Cho'kish paytida yuqori energiyali ionlar nishonni bombardimon qiladi, TiO2 atomlari yoki molekulalarini siqib chiqaradi, so'ngra substratga joylashadi va material va jarayon parametrlari bilan belgilanadigan xususiyatlarga ega nozik plyonka hosil qiladi.
Ushbu disklar optika, elektronika, qoplamalar va boshqalar kabi sohalarda qo'llaniladigan maxsus talablarga javob beradigan, TiO2 materialining substratga samarali va boshqariladigan cho'ktirilishini ta'minlash uchun aniqlik va tozalik bilan ishlab chiqilgan.
